日付:

• 2026-04-22 10:00~2026-04-24 17:00

ロケーション:

• パシフィコ横浜

ブース:

• J-25

この度当社は、光学・レーザ・フォトニクス分野の最先端技術が一堂に会する国内最大級の国際専門展示会OPIE ’26（OPTICS & PHOTONICS International Exhibition 2026）に出展いたします。

当社ブースでは、新製品である紫外半導体レーザ（379nm）、紫色半導体レーザ（402nm）に加え、現在※未発表の半導体レーザを展示予定です。

これらの製品は、AI向け先端パッケージ基板用マスクレス露光装置における微細配線化や生産スループット向上に貢献するとともに、各種水銀灯代替光源ソリューションとしても幅広い用途が期待されています。

皆様のご来場を心よりお待ちしております。※ 2026年3月23日時点

[   開催概要   ]

　名称：OPIE ’26（OPTICS & PHOTONICS International Exhibition 2026）

　開催日程： 2026年4月22日（水）～ 4月24日（金） 10:00～17:00

　会場：パシフィコ横浜（当社ブース番号：J-25）

　▼ 詳細・来場登録はこちら

https://nuvoton.co.jp/semi-spt/apl/rd/?id=1001-0621

[出展テーマ]

業界最高出力クラスの紫外・紫色（379/402nm）半導体レーザをはじめ、紫外から赤外までをカバーする豊富なラインアップを展示します。レーザダイレクトイメージング、産業用レーザ加工、3Dプリンティングなど多彩な用途に対応し、水銀ランプ代替による環境負荷低減・サステナビリティ向上に貢献する光源ソリューションをご紹介します。

-出展製品-

高光出力 379 nm 紫外半導体レーザ

高光出力 402 nm 紫色半導体レーザ

高光出力 420 nm インディゴ半導体レーザ

など

（テーマは予告なく変更する場合があります）